反應釜制冷制熱循環(huán)裝置是現代精細化工、生物制藥和新材料合成的中試、生產的控溫設備，內層可以放入反應溶媒做攪拌反應，夾層可通上不同的冷熱源做高溫反應或低溫反應。

　　反應釜制冷制熱循環(huán)裝置中的氣體雜質會使得制冷系統冷凝壓力增高，提高了壓縮機的排氣溫度，提高了用電量，降低了制冷效率。而且由于排氣溫度過高，潤滑脂可能會被碳化，影響潤滑效果，嚴重時制冷壓縮機電機會被燒毀。

　　這些存在于反應釜制冷制熱循環(huán)裝置內部的氣體可能是漏入的空氣，也可能是外部氣體在添加制冷劑和潤滑油時借機進入，也可能是小型實驗室的反應釜制冷制熱循環(huán)裝置密封不嚴密，導致空氣進入系統。此外，反應釜制冷制熱循環(huán)裝置的冷凍油分解、制冷劑不良、金屬材料腐蝕等因素也會帶來氣體。當然，反應釜制冷制熱循環(huán)裝置采用全封閉循環(huán)，防止這些空氣進入設備內部管路。

　　一般來說，反應釜制冷制熱循環(huán)裝置中的氣體體現在反應釜制冷制熱循環(huán)裝置壓縮機的排氣壓力和排氣溫度升高，冷卻器(或儲液器)上的氣壓表指針劇烈擺動，壓縮機缸頭發(fā)燙，冷凝器外殼非常熱；反應釜制冷制熱循環(huán)裝置蒸發(fā)器表面結霜不均勻。當反應釜制冷制熱循環(huán)裝置存在大量氣體時，由于設備制冷量下降，工作溫度降不下來，壓縮機運行時間長，甚至壓縮機因高壓繼電器動作而關閉。

如果這些氣體存在于反應釜制冷制熱循環(huán)裝置中，可以用氣壓表測量制冷系統的冷凝壓力與當時環(huán)境溫度下的飽和壓力進行比較。如果實測壓力大于工作溫度下的飽和壓力，則表明該系統含有氣體。