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反應器制冷加熱循環(huán)一體機的控溫方案原理

簡要描述:【無錫冠亞】反應器制冷加熱循環(huán)一體機的控溫方案原理,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-125
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-15
  • 訪  問  量:1148
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產地類別國產應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),石油,航天

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

反應器制冷加熱循環(huán)一體機的控溫方案原理

反應器制冷加熱循環(huán)一體機的控溫方案原理

反應器制冷加熱循環(huán)一體機是針對反應釜、反應器、反應罐等進行流體制冷加熱控溫的設備,目前市面上的廠家比較多,那么反應器制冷加熱循環(huán)一體機的控溫原理以及工藝大家都了解多少呢?

  反應釜或者反應器在進行制冷加熱控溫的時候,配套的反應器制冷加熱循環(huán)一體機進行控溫達到預期的溫度范圍,這整個過程會使得產生一定的化學反應,產生熱量,這個反應過程容易被外界所影響,所以,反應器制冷加熱循環(huán)一體機的放置環(huán)境比較重要,建議選擇通風陰涼的靠譜房間放置。

  反應器制冷加熱循環(huán)一體機配套的反應釜在進行聚合反應的,會出現一系列的放熱反應以及吸熱反應,在進行化學反應的時候,建議周圍操作人員不要太靠近,避免產生一定的麻煩。在進行反應的過程中,如果熱量不及時排除,會影響反映得壓力,如果壓力太高會使得整個反應處于一定的危險。

  反應器制冷加熱循環(huán)一體機可以配套不同容積大小的反應釜進行制冷加熱控溫,由于不同大小的反應釜帶來的熱容量不同,所以其吸熱或者放熱的能力也不同,因此,反應器制冷加熱循環(huán)一體機的選型需要提供準確反應釜大小、溫度要求、材質等工況要求給反應器制冷加熱循環(huán)一體機廠家進行選型,避免選型或大或小導致設備達不到預期的溫度要求。

  反應器制冷加熱循環(huán)一體機可以同時控制一臺或者多臺反應釜,是一種集成控溫的大系統裝置,可以根據工況要求進行生產。


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